aligner中文翻譯,aligner是什么意思,aligner發(fā)音、用法及例句
- 內容導航:
- 1、aligner
- 2、光刻機被稱(chēng)為什么?
1、aligner
aligner發(fā)音
英: 美:
aligner中文意思翻譯
常見(jiàn)釋義:
n.(機)調整器;汽車(chē)的轉向輪安裝角測定儀;前軸定位器;隱形牙箍
aligner雙語(yǔ)使用場(chǎng)景
1、Our company specialized in manufacturing and managing of tyre changer, wheel balancer, aligner, lifter and nitrogen gas machine. Five series and more than twenty models.───本公司主要生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)各種型號的輪胎拆裝機、輪胎平衡機、四輪定位儀、舉升機、氮氣機等五大系列20多個(gè)品種的產(chǎn)品。
2、The Wedge Error Compensation Technology Used in the Double Sides Mask Aligner───一種應用于雙面光刻機中的楔形誤差補償技術(shù)
3、During the retention phase, the Clear Aligner acts as a passive retainer but it is activated if relapse occurs.───在保留期,明確光刻作為被動(dòng)聘但它已被激活,如果出現復發(fā)。
4、A row aligner, supplied by Delta Systems (Rogers, AR), makes sure all eight cakes are lined up evenly.───一排同步,提供的三角洲系統(羅杰斯,AR)的,可以確保所有八個(gè)蛋糕排隊均勻。
5、The specific parameters of main optical system are deduced from the requirement of pattern transfer for the projection aligner. The limit of these parameters is discussed.───本文從投影光刻機的圖形傳遞要求出發(fā),導出投影光刻機各主要光學(xué)系統的具體要求,并討論這些參數確定的局限性。
6、In this article, the authors explain the indications and limitations of the Clear Aligner, as well as the laboratory and clinical protocol.───在這篇文章中,作者解釋的適應證和局限性的明確光刻,以及實(shí)驗室和臨床議定書(shū)。
7、The Clear Aligner is an esthetic, efficient, comfortable, and low-cost appliance.───明確光刻是一種美觀(guān),高效,舒適,低成本的設備。
8、Design and Implementation of a Parallel Frame Aligner in VSR System───甚短距離光傳輸系統并行幀同步電路的設計與實(shí)現
aligner相似詞語(yǔ)短語(yǔ)
1、dissecting anomalies───解剖異常
2、chrysaline josh garrels───喬?!どw瑞斯
3、equalization rf───均衡射頻
4、decentralizing power───權力下放
5、sex baliye───性報告
6、criminality by political affiliation───按政治派別劃分的犯罪行為
7、cymbalista synagogue───鈸式會(huì )堂
8、cephalitis skin───皮膚頭炎
9、vocality credit union───聲樂(lè )信用合作社
10、Alissa cyrine───艾莉莎·西琳。
2、光刻機被稱(chēng)為什么?
光刻機(Mask Aligner)又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等,是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細圖形通過(guò)光線(xiàn)的曝光印制到硅片上。光刻機的種類(lèi)可分為:接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。
光刻機的工作原理是通過(guò)一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過(guò)畫(huà)著(zhù)線(xiàn)路圖的掩模,經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差,將線(xiàn)路圖成比例縮小后映射到硅片上。然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。光刻機的制造和維護需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎,因此,世界上只有少數廠(chǎng)家掌握。
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